compostos de fluoreto são usados em revestimentos para as regiões UV a ir-média. Eles fornecem os índices de refração mais baixos e, portanto, são componentes essenciais de revestimentos anti-refletivos. As películas de fluoreto exibem Bandas de absorção nas regiões IR de 2,8-3,2 µm e 6,0-7,4 µm a profundidades variáveis, dependendo do composto e do método e parâmetros de deposição. Altas temperaturas de substrato, feixes E IAD são métodos que reduzem as profundidades das absorções.o fluoreto de alumínio AlF3 é um material conhecido que já foi usado como um material de revestimento onde era necessário um baixo índice.* Não é afetada pela água e tem boa força mecânica.AlF3 é utilizado como material de revestimento para espelhos em lasers excímeros. A tecnologia laser Excimer tem aplicações na angioplastia em medicina e litografia no processamento de semicondutores.as propriedades físicas do material sólido AlF3 
os parâmetros de evaporação de AlF3
AlF3 foram testados evaporados com um feixe de electrões de cadinhos de grafite. O material foi pré-condicionado por 5-15 minutos para desidratar as superfícies de partículas e criar uma superfície densa derretida. AlF3 evaporou-se suavemente a 10-6 Torr a baixa potência do feixe E. Não houve cuspidelas, e a pressão de vácuo continuou a diminuir, indicando que não havia voláteis ou vapor de água sendo emitidos. Uma taxa de deposição de 10-20 Å/sec. e sugere-se uma temperatura do substrato igual ou superior a 250°C para a maior densidade, resistência à água e dureza.as películas de AlF3
AlF3 revestimentos têm um índice muito baixo em comparação com outros fluoretos. Uma perda de ~2% na transmissão em comprimentos de onda próximos de 400 nm é atribuída a uma deficiência parcial do teor de flúor causada pela decomposição na evaporação do feixe-E. Esta depleção é agravada por processos de alta energia, como deposição assistida por iões (IAD). O efeito é mínimo com a evaporação aquecida por resistência. Uma vez que a camada de película evaporada no ensaio tinha cerca de 1500 nm de espessura, esta deficiência não seria detectável no UV, onde as aplicações exigem camadas de um décimo desta espessura. AlF3 tem promessa de uso de IR embora a sua absorção na região de 10 µm pode ser um pouco maior do que o desejável para aplicações de alta energia. A durabilidade e aderência dos filmes AlF3 provou ser excelente. No UV, o AlF3 encontra aplicações em revestimentos laser de alta energia a comprimentos de onda inferiores a 250 nm.
FORMS AND SIZES AVAILABLE
| Item # | Purity | Description |
| 122737 | 99.5% | 3 – 6 mm pieces highly dense, pressure sintered |
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de REFERÊNCIA para o Fluoreto de Alumínio para Revestimento Óptico, a partir Evaporado a Vácuo de Filmes de Alumínio, Flúor W. Heitmann, Thin Solid Films, 5 (1970) 61-67. Todos os materiais impressos, gráficos e pictóricos disponibilizados neste site são de propriedade da Materion e protegidos pelas leis federais de direitos autorais. Nenhum dos materiais, no todo ou em parte, pode ser reimpresso e distribuído ou de outra forma colocado à disposição de outros para qualquer finalidade, sem o consentimento prévio por escrito de Materion.