Los compuestos de fluoruro se utilizan en revestimientos para las regiones UV a IR medias. Proporcionan los índices de refracción más bajos y, por lo tanto, son componentes esenciales de los recubrimientos antirreflectantes. Las películas de fluoruro muestran bandas de absorción en las regiones IR de 2,8 a 3,2 µm y de 6,0 a 7,4 µm a profundidades variables, según el compuesto y el método y los parámetros de deposición. Las altas temperaturas del sustrato, el haz E y el DAI son métodos que reducen la profundidad de las absorciones.
El fluoruro de aluminio, AlF3, es un material bien conocido que se ha utilizado previamente como material de revestimiento donde se requería un índice bajo.* No se ve afectado por el agua y tiene buena resistencia mecánica.
APLICACIONES DE AlF3
AlF3 se utiliza como material de revestimiento para espejos en láseres excimer. La tecnología láser Excimer tiene aplicaciones en angioplastia en medicina y litografía en procesamiento de semiconductores.
PROPIEDADES FÍSICAS DEL MATERIAL SÓLIDO AlF3
PARÁMETROS DE EVAPORACIÓN DE AlF3
AlF3 se probó evaporando con un haz de electrones de crisoles de grafito. El material se preacondicionó durante 5-15 minutos para deshidratar las superficies de partículas y crear una superficie densa y fundida. AlF3 se evaporó suavemente a 10-6 Torr a baja potencia de haz eléctrico. No hubo escupitajos, y la presión de vacío continuó disminuyendo, lo que indica que no se emitían volátiles ni vapor de agua. Una tasa de deposición de 10-20 Å/seg. y se sugiere una temperatura de sustrato igual o superior a 250°C para obtener la mayor densidad, resistencia al agua y dureza.
PROPIEDADES DE PELÍCULA DE AlF3
Los recubrimientos AlF3 tienen un índice muy bajo en comparación con otros fluoruros. Una pérdida de ~2% en la transmisión a longitudes de onda cercanas a 400 nm se atribuye a una deficiencia parcial del contenido de flúor causada por la descomposición en la evaporación del haz electrónico. Este agotamiento se ve agravado por procesos de alta energía, como la deposición asistida por iones (DAI). El efecto es mínimo con evaporación calentada por resistencia. Dado que la capa de película evaporada de prueba era de ~1500 nm de espesor, esta deficiencia sería indetectable en la radiación UV, donde las aplicaciones requieren capas de una décima parte de este espesor. AlF3 es prometedor para el uso de INFRARROJOS, aunque su absorción en la región de 10 µm podría ser un poco más alta de lo deseable para aplicaciones de alta energía. La durabilidad y adherencia de las películas AlF3 demostraron ser excelentes. En la UV, AlF3 está encontrando aplicaciones en recubrimientos láser de alta energía a longitudes de onda inferiores a 250 nm.
FORMS AND SIZES AVAILABLE
| Item # | Purity | Description |
| 122737 | 99.5% | 3 – 6 mm pieces highly dense, pressure sintered |
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REFERENCIA a Fluoruro de Aluminio de la Capa Óptica, desde el Vacío Evaporada Películas de Fluoruro de Aluminio, W. Heitmann, Thin Solid Films, 5 (1970) 61-67. Todos los materiales impresos, gráficos y gráficos disponibles en este sitio web son propiedad de Materion y están protegidos por las leyes federales de derechos de autor. Ninguno de los materiales, en su totalidad o en parte, puede reimprimirse y distribuirse o ponerse a disposición de otros para ningún propósito sin el consentimiento previo por escrito de Materion.