Fluoridverbindungen werden in Beschichtungen für den UV- bis mittleren IR-Bereich eingesetzt. Sie bieten die niedrigsten Brechungsindizes und sind daher wesentliche Bestandteile von Antireflexbeschichtungen. Fluoridfilme zeigen Absorptionsbanden in den IR-Bereichen 2,8-3,2 µm und 6,0-7,4 µm in unterschiedlichen Tiefen, abhängig von der Verbindung und dem Abscheidungsverfahren und den Parametern. Hohe Substrattemperaturen, E-Beam und IAD sind Methoden, die die Absorptionstiefen reduzieren.Aluminiumfluorid, AlF3, ist ein bekanntes Material, das bisher als Beschichtungsmaterial verwendet wurde, wo ein niedriger Index erforderlich war.* Es wird nicht durch Wasser beeinflußt und hat gute mechanische Festigkeit.
ANWENDUNGEN VON AlF3
AlF3 wird als Beschichtungsmaterial für Spiegel in Excimerlasern verwendet. Excimer-Laser-Technologie hat Anwendungen in der Angioplastie in der Medizin und Lithographie in der Halbleiterverarbeitung.
PHYSIKALISCHE EIGENSCHAFTEN DES FESTSTOFFS AlF3
VERDAMPFUNGSPARAMETER VON AlF3
AlF3 wurde testweise mit einem Elektronenstrahl aus Graphittiegeln verdampft. Das Material wurde 5-15 Minuten vorkonditioniert, um die Partikeloberflächen zu entwässern und eine geschmolzene, dichte Oberfläche zu erzeugen. AlF3 verdampfte glatt bei 10-6 Torr bei niedriger E-Strahlnleistung. Es trat kein Spucken auf, und der Vakuumdruck nahm weiter ab, was darauf hinweist, dass keine flüchtigen Stoffe oder Wasserdampf emittiert wurden. Eine Abscheidungsrate von 10-20 Å/sec. und eine Substrattemperatur von gleich oder größer als 250 ° C werden für höchste Dichte, Wasserbeständigkeit und Härte vorgeschlagen.
FILMEIGENSCHAFTEN VON AlF3
AlF3-Beschichtungen haben im Vergleich zu anderen Fluoriden einen sehr niedrigen Index. Ein Verlust von ~ 2% der Transmission bei Wellenlängen nahe 400 nm wird auf einen teilweisen Mangel an Fluorgehalt zurückgeführt, der durch Zersetzung in der E-Strahl-Verdampfung verursacht wird. Diese Verarmung wird durch Hochenergieprozesse wie die ionenunterstützte Abscheidung (IAD) verstärkt. Der Effekt ist bei widerstandsbeheizter Verdampfung minimal. Da die testverdampfte Filmschicht ~ 1500 nm dick war, wäre dieser Mangel im UV nicht nachweisbar, wo Anwendungen Schichten von einem Zehntel dieser Dicke erfordern. AlF3 ist vielversprechend für den IR-Einsatz, obwohl seine Absorption im 10-µm-Bereich etwas höher sein könnte als für Hochenergieanwendungen wünschenswert. Die Haltbarkeit und Haftung von AlF3-Folien erwies sich als ausgezeichnet. Im UV-Bereich findet AlF3 Anwendungen in hochenergetischen Laserbeschichtungen bei Wellenlängen unter 250 nm.
FORMS AND SIZES AVAILABLE
| Item # | Purity | Description |
| 122737 | 99.5% | 3 – 6 mm pieces highly dense, pressure sintered |
LEARN WHAT MATERION CAN OFFER
View more about Materion fluorides. Wir bieten verschiedene Partikelgrößen für Verdampfungs- und Sputtertargets an. Um diesen Artikel zu sehen, besuchen Sie bitte den Materion Online-Katalog. Wenn Sie einen kundenspezifisch gefertigten Artikel benötigen, kontaktieren Sie uns bitte.
Telefon: 414-289-9800 / FAX: 414-289-9805 / [email protected]
——————————————————————————————————————————————————————————————————–
VERWEIS auf Aluminiumfluorid zur optischen Beschichtung, aus vakuumverdampften Filmen aus Aluminiumfluorid, W. Heitmann, Dünne feste Filme, 5 (1970) 61-67. Alle auf dieser Website zur Verfügung gestellten Druck-, Grafik- und Bildmaterialien sind Eigentum von Materion und durch Bundesgesetze zum Urheberrecht geschützt. Keines der Materialien, ganz oder teilweise, darf ohne vorherige schriftliche Zustimmung von Materion für irgendeinen Zweck nachgedruckt und verbreitet oder anderweitig zur Verfügung gestellt werden.