불소 화합물에 사용되는 코팅에 대한 자외선 중-IR 영역입니다. 그들은 가장 낮은 굴절률을 제공하므로 반사 방지 코팅의 필수 구성 요소입니다. 불화물 필름은 화합물 및 증착 방법 및 파라미터에 따라 IR 영역 2.8-3.2μm 및 6.0-7.4μm 의 흡수 밴드를 다양한 깊이로 표시합니다. 높은 기판 온도,E-빔 및 IAD 는 흡수체의 깊이를 줄이는 방법입니다.
불화 알루미늄 인 AlF3 은 이전에 낮은 지수가 요구되는 코팅재로 사용되어 왔던 잘 알려진 재료입니다.*물에는 영향을 받지 않으며 좋은 기계적인 힘이 있습니다.
AlF3 의 신청
AlF3 는 엑시머 레이저에 있는 거울을 위한 코팅 물자로 이용됩니다. 엑시머 레이저 기술은 응용 프로그램에서 혈관 성형술학과 리소그래피는 반도체 처리합니다.
의 물리적 특성을 단단한 물질 AlF3
증발의 매개변수 AlF3
AlF3 었 테스트 증발을 가진 전자 빔을 흑연에서 도가니. 물질을 입자 표면을 탈수시키고 녹고 조밀 한 표면을 만들기 위해 5-15 분 동안 사전 조건화 하였다. AlF3 은 낮은 E-빔 전력으로 10-6Torr 에서 부드럽게 증발했습니다. 침이 발생하지 않았고 진공 압력이 계속 감소하여 휘발성이나 물 증기가 방출되지 않았 음을 나타냅니다. 10-20Å/sec 의 증착 속도. 그리고 가장 높은 밀도,물 저항 및 경도에 대 한 동일 하거나 250°C 보다 큰 기판 온도 제안 됩니다.
속성 영화의 AlF3
AlF3 코팅 매우 낮은 인덱스에 비해 다른 불소. 400nm 근처의 파장에서의 전송에서~2%의 손실은 E-빔 증발에서의 분해로 인한 불소 함량의 부분적 결핍에 기인한다. 이 고갈은 이온 보조 증착(iad)과 같은 고 에너지 공정에 의해 악화됩니다. 효과는 저항 가열 증발로 최소화됩니다. 이 테스트는 증발 영화층~1500nm 두께,이 부족에는 것에서 발견할 수 없 UV,응용 프로그램을 필요로 레이어 십분이 두께입니다. AlF3 는 IR 사용에 대한 약속을 가지고 있지만 10μm 영역에서의 흡수는 고 에너지 응용 분야에서 바람직한 것보다 조금 더 높을 수 있습니다. AlF3 필름의 내구성과 접착력이 우수하다는 것이 입증되었습니다. UV 에서,AlF3 는 250nm 이하 파장에 고에너지 레이저 코팅에 있는 신청을 찾아내고 있습니다.
FORMS AND SIZES AVAILABLE
| Item # | Purity | Description |
| 122737 | 99.5% | 3 – 6 mm pieces highly dense, pressure sintered |
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참조 알루미늄 불소를 위한 광학적인 코팅,진공 증발 영화의 알루미늄 불소,W. Heitmann,얇은 고체 필름,5(1970)61-67. 이 웹 사이트에서 제공되는 모든 인쇄,그래픽 및 그림 자료는 Materion 이 소유하고 연방 저작권법에 의해 보호됩니다. 아무도 자료의 전체 또는 일부를 수있다,재인쇄 및 배포 또는 그렇지 않으면 사용할 수 있는 다른 사람을 위해 어떤 목적지 않고 Materion 의 사전 서면 동의합니다.